中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 研發(fā)步入正軌

　　在半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。

　　前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應(yīng)EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準(zhǔn)備該國政府的出口申請文本工作。

　　中芯國際董事長周子學(xué)日前在韓國訪問，韓媒報道稱周子學(xué)表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應(yīng)存在的問題，強調(diào)中芯國際在先進工藝上的研發(fā)、生產(chǎn)一直處于穩(wěn)定的軌道上，與客戶及設(shè)備供應(yīng)商之間沒有任何問題。

　　ASML公司是EUV光刻機目前唯一的供應(yīng)商，今年四季度，ASML預(yù)計交付8臺EUV光刻機，平均每臺價格達到了1.2億歐元，折合人民幣9.3億元，堪稱人類最昂貴的設(shè)備了。